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真空镀膜的事情原理是膜在高温下蒸发 ，落在工件外貌结晶。由于空气对蒸发的膜分子爆发阻力 ，造成碰撞 ，晶体变得粗糙无光 ，因此晶体必须在高真空下细密明亮。如果真空度不高 ，晶体就会失去光泽 ，结协力也很差。早期真空镀膜依靠蒸发体自然散射 ，结合效率低 ，光泽差。现在加上中频磁控溅射靶 ，磁控溅射锆在电场的作用下加速了膜的蒸发分子的轰击 ，溅出了大宗的靶原子 ，中性靶原子(或分子)沉积在基底上成膜 ，解决了以往自然蒸发不可加工的膜品种 ，如镀钛镀锆等。
由于其频率高、电流大 ，中频设备必须加入冷却水。当导体流动时 ，电流具有集肤效应 ，电荷会聚集在导体外貌 ，从而使导体发热 ，因此接纳中孔管作导体中间加水冷却。
磁控控制溅射靶 ，为什么还要用水冷却？磁性控制溅射靶在发射历程中会爆发高温 ，从而使射枪变形 ，因此它有一个水套来冷却射枪。与此同时 ，磁控溅射也是电镀技术中最突出的成绩之一。其溅射率高 ，基片温度升低 ，膜-基结协力好。
对电子在非均匀电磁场中的运动纪律进行了深入的研究 ，探讨了磁控溅射的一般原理 ，以及磁场的横向不均匀性和对称性 ，这是磁约束的基础原因。磁性控制溅射是镀膜工艺中最突出的成绩之一。其溅射率高 ，基片温度升低 ，膜-基结协力好 ，设备性能稳定。
冷却器是一种水冷设备 ，可以提供恒温 ，恒流 ，恒压的冷却器。它的事情原理是先向机械内的水箱注入一定量的水 ，通过制冷系统将水冷却 ，然后由泵将低温冷却水输送到需要冷却的设备中 ，冷冻水带走热量后 ，温度升高 ，再回流到水箱中 ，抵达冷却的效果�？梢云揪菪枰远骼砝淙此露� ，恒久使用可以节省用水。
冷却器可以控制真空镀膜机的温度 ，包管镀件的优质。若不配备冷水机 ，则无法使真空镀膜机抵达高精度、高效率地控制温度的目的 ，因为自然水和水塔的散热一定会受到自然温度的影响 ，并且这种控制方法很是不稳定。
冷水机组有完全独立的制冷系统 ，不受温度和情况的影响。水温在5℃~30℃规模内调理控制 ，可以抵达高精度高效控制温度的目的。冷水机组有独立的水循环系统。
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