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在镀膜领域 ，镀膜后薄膜样品的厚度是影响薄膜性能的重要因素。因此 ，在评估薄膜样品的性能时 ，有须要测试差别厚度下薄膜样品的性能。在真空镀膜的情况下 ，往往需要多次准备样品。可是这么多次制备样品有两个问题:一 ，关于差别时间生长的样品 ，仪器的状态是差别的 ，所以影响薄膜样品性能的因素可能不但仅是厚度 ；其次 ，在真空镀膜实验中加载样品时 ，再次获得真空是很是耗时的。和检测本钱增加。
真空镀膜是一种需要在高真空度下进行的镀膜 ，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。在真空镀膜历程中 ，磁控溅射靶在发射历程中会爆发高温 ，使发射变形 ，所以它有水套来冷却发射。为了包管水套内的水温不受情况和自然气温的影响 ，通常需要使用冷水机对真空镀膜机进行冷却。
使用电子镀膜时 ，在钟罩外围要放一块铝板。视察窗的玻璃应接纳铅玻璃 ，视察时应佩戴铅玻璃眼镜 ，避免x光对人体造成伤害。2.在离子轰击和蒸发历程中 ，要特别注意高压线接头 ，不要触碰 ，以防触电。1.真空镀膜机正常运行时 ，必须先翻开水管 ，事情中要注意水压。
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