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单银/双银Low-E镀膜生产线
1、Low-E镀膜生产工艺及其原理
1.1概述
镀膜玻璃的生产要领许多，主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等 。
而其中目前海内外Low-E玻璃生产应用广泛的方法是真空磁控溅射法，特别是建筑Low-E玻璃 。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术，可以设计制造多层庞大膜系，可在透明的玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐化和耐磨性能较好 。磁控溅射法是溅射速率高，性能比较稳定的镀膜要领 。
1.2真空磁控溅射的基来源理
真空磁控溅射法是将玻璃置于真空室内，并通入事情气体（氩气、氮气和氧气等），当在溅射阴极、阳极间通电时，由于高压电场的作用使气体（氩气）分子电离，带正电的氩粒子将在电场的加速下，向阴极靶材外貌撞击，将靶材外貌的金属离子击出，以逐渐沉积在玻璃外貌形成薄膜 。
在溅射历程中，大部分能量转酿成热量，因此需要对真空溅射室进行水冷却 。
溅射工艺可以在大面积的基片上进行均匀镀膜 。
2、Low-E镀膜生产线结构和工艺流程
本Low-E镀膜整线由以下部分组成：
手动装片台 ---自动上片台 ----过渡台（一） ---- 前清洗机 ----原片视察台----横向定位台----进片台----进片室Z1----进口精抽室Z2----- 进口过渡室Z3 ---- 溅射室Z4-1、2、3、4、5、6、7、8等（溅射室的几多视工艺而定）-----出口过渡室Z5---- 出口精抽室Z6---- 出片室C7----出片台 ----过渡台(二)---- 光谱仪过渡台----检验室-----喷粉机---- 过渡台（三）--- 自动下片台----手动卸片台
本设备接纳七室6锁结构：七室结构优于五室结构，制止了玻璃传入溅射区域时附带杂质气体对溅射区域稳态的攻击和污染，成膜纯净度高，膜结构牢固，抗腐化及紫外照射性强，理化性能好 。在阴极选用上，使用平面阴极和直流电源，接纳旋转阴极和中频电源，会使镀膜工艺更稳定，膜层更致密 。
图1-1，图1-2， Low-E镀膜生产线
3、Low-E镀膜生产线的性能及其参数
正因为看到海内外还保存一些差别，认识到海内厂家已往的一些缺乏，AG凯发K8国际公司迎难而上，通过引进人才和聘请大学教授，与科研机构相助，积极研发、革新 。现在我们研发制造的Low-E镀膜设备技术水平跃上一个新台阶，抵达海内先进水平 。具体性能和参数如下表所示：
3.1玻璃规格 | ||
可镀玻璃尺寸 | 尺寸 | 单位 |
较大可达 | 2440X3660 | mm |
较小可达 | 300X900 | mm |
可镀玻璃厚度 | 3-19 | mm |
3.2玻璃原片要求 | ||
1、玻璃原片必须洁净、无划伤、无刮痕、无气泡等缺陷，玻璃安排时间不要凌驾二周 。 | ||
2、玻璃原片外貌必须无油、无胶带、无纸痕、无锡点等残留物 。 | ||
3、玻璃原片不得雨水淋、回潮、发霉 。 | ||
4、单、双银可钢化镀膜在钢化前玻璃需清洗洁净，以防钢化历程中造成玻璃外貌破坏而致镀膜层有针眼或膜层耐磨性降低 。 | ||
图2-1 手动上、下片台
3.3过渡台（一）
3.4、前清洗机
由于Low-E镀膜玻璃在镀膜前要求基片外貌严格洁净、干燥，因此在玻璃基片进行镀膜前必须清洗 。为此专门配置前清洗机用来清洗镀膜玻璃基片 。清洗机接纳仿本特勒清洗机，清洗、风干一次完成 。配多道毛刷盘和风刀，先清洗，后风刀吹干 。清洗毛刷盘可以凭据清洗效果上下调解，以包管清洁洁净 。风刀角度也可以调解，以抵达好的吹干角度 。吹风必须洁净、无尘、无油，为此配一套风机和过滤系统，风机风量要求足够大，过滤网凭据过滤效果装置多道，并且日常维护要求达一按期限就要求跟换过滤棉，包管吹风无污染 。
3.5、电源
本镀膜线接纳进口电源，稳定性好，控制准确、可靠，并具有�；すπ� 。
图5-1真空控制柜 图5-2低真空控制柜
控制电路系统约莫上千个以上的数字输入和数字输出，100个以上模拟输入及100个模拟输出通过工业控制机由PLC控制，输入输出� ？樽爸糜诳刂剖壹捌渌毓窭�, 盘算机，PLC及相应丈量仪器控制系统装置于主控房控制里，液晶显示器，键盘及鼠标安排于控制房操作台上 。
图5-3 控制室操作系统结构
传动控制：控制准确、可靠，凭据具体情况而快、慢速控制，生产效率高 。
3.6、在线光学检测系统 （1套）
在线光学丈量系统是检测镀膜玻璃制品的设备，该检测系统使得产品真正做到光谱性能100%经过检验，它可以通过电脑对每一片玻璃的纵向及纪录和生存丈量数据、丈量时间、类型、批次，准时打印存档，是产品质量追溯和出具质量及格证依据之一 。关于生产低辐射玻璃，该系统还能在线非接触性准确丈量产品的面阻值 。
具体如下图所示
图6-1在线光学检测系统
3.7、在线喷粉机
3.8、自动下片台
3.9、人工下片台
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