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多功效真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子镀膜和蒸发镀膜的混淆设备 。在多弧离子镀膜机的基础上，配以圆柱形靶材或平面磁控管靶材 。该设备具有离子镀的高电离率和高聚集速度的特点 。它还具有低温和磁控溅射稳定性的优点 。适用于种种复合膜的电镀 。
多功效真空镀膜机：磁控管、中频、多弧离子镀膜
① 发汗磁控溅射混淆设备：多功效，适合批量生产，适应性强 。
② 磁控溅射与多弧离子镀的混淆应用：多弧可提高火炮清洗质量，增加薄膜与基体的附着力 。与磁控溅射结合，可以制备复合膜（高能离子源清洗活化，成膜速度快） 。
③ 多中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混淆应用：中频靶更稳定（如铝），电离率高，聚集速度快，成膜均匀 。如反应溅射，如镀SiO2、TiO2等，用差别的原质料多层镀膜 。
④ 射频、直流、中频、柱弧混淆应用：射频可直接涂覆绝缘�；つiO2/Ag/SiO2
⑤ 圆柱弧、中频弧和多弧混淆应用：圆柱弧确保高电离率，减少大颗粒的积累，具有良好的附着力和外貌光洁度 。多功效真空镀膜机适用于表带、表壳、眼镜架、手机壳、高尔夫工具、卫浴、首饰等中高等产品 。
革新步伐：
一是增强脱脂去污处理 。如果是超声波清洗，应注重脱脂功效，包管脱脂液的有效性；如果是手搓，可以考虑用碳酸钙粉擦拭后再清洗 。
二是镀前增强烘烤 。如果条件允许，基板温度比较好坚持在300以上℃ 坚持20分钟以上，以便尽可能多地挥发基材外貌的水蒸气和油蒸气*注：温度越高，基材的吸附容量越大，且容易吸附灰尘 。因此，应提高真空室的清洁度 。不然，镀前会有灰尘附着在基体上，不但会造成其它缺陷，还会影响膜层强度（基体上水汽的化学脱附温度在260以上）℃ 在真空中 。但并非所有零件都需要高温烘烤 。一些硝酸盐质料在高温下膜强度较低，会泛起色斑 。它与应力和质料热匹配有很大关系 。
3.在条件允许的情况下，机组配备PolyCold，不但可以提高机组抽真空速度，并且有助于去除基体上的水蒸气和油气 。
四是提高蒸发真空度 。关于1米以上的涂布机，蒸提倡始真空度应大于3*10-3pa 。涂布机越大，开始蒸发的真空度越高 。
5.在条件允许的情况下，在机组内装置离子源，镀前进行轰击，清洗基体外貌，辅助涂装工艺，有利于镀层的致密性和牢固性 。
六膜质料除湿，将培养皿中使用的膜质料放入真空室中干燥 。
7.坚持事情情况干燥（包括擦拭镜片和雨伞事情区），清洁事情情况时不要带入过多的水蒸气 。
8.关于多层膜，在设计膜系时，应考虑第1层膜与衬底的匹配，尽量考虑使用对大大都衬底具有良好吸附能力的Al2O3膜质料 。关于金属膜，也可以考虑第1层Cr或Cr合金 。铬或铬合金对基体也有良好的吸附能力 。
9.用抛光液（抛光液）去除镜片外貌的腐化层（水解层）
同时，降低蒸发速率有利于提高膜的强度和膜的外貌光洁度 。
② 薄膜应力：
薄膜的成膜历程是物质形态转变的历程 。成膜后，薄膜中不可制止地会爆发应力 。关于多层膜，膜质料有差别的组合，每个膜所反应的应力差别，有的是拉应力，有的是压应力，另有膜与基体的热应力 。
应力的保存对薄膜的强度是有害的 。轻的是薄膜不可对抗摩擦，重的是薄膜破裂或网状通道 。
关于减反射膜，由于层数较少，应力不明显，高反射膜和多层滤膜的应力是常见的倒运因素，应特别注意 。
革新步伐：
烘烤后电镀，烘烤后最后一层薄膜，不要立即停止，继续10分钟“回火” 。薄膜结构趋于稳定 。
二是适当延长冷却时间，进行退火时效 。降低真空室内外温差大引起的热应力 。
三对高反射膜和滤膜在蒸发历程中基板温度不宜过高，温度过高容易爆发热应力 。对氧化钛和氧化钽薄膜的光学稳定性也有负面影响 。
3.离子辅助涂层工艺，降低应力 。
第四，选择合适的膜系匹配，第1层膜材与衬底匹配（例如，五层减反射膜为al2o3-zro2-al2o3-al2o3-zro2-mgf2；ZrO2也可以使用sv-5（一种ZrO2-TiO2混淆薄膜质料）或其他混淆高折射率薄膜质料 。 。
5.适当降低蒸发速率（al2o3-2.5a/s；ZrO2-3A/S；Mgf2-6a/S（参考速率）
六对氧化膜质料均为充氧反应镀，并凭据差别的膜质料控制氧气进气量 。
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