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具有差别涂层工艺的真空涂层机使用差别的自动控制系统，甚至具有相同涂层工艺的真空涂层机也会由于控制技术指标的差别而使用差别的控制系统。通用镀膜设备自动控制系统的基本组成部分是微机，自动控制设备，工业自动化仪表，压力控制器，真空计和一些自动控制组件等，可以实现真空镀膜设备程序的自动控制，切换镀膜工艺流程，基本功效，如调解真空工艺参数。
在选择真空镀膜机的控制系统时，前提是它能有效满足真空镀膜设备及其镀膜历程的控制要求，注意真空镀膜设备的种种结构与自动控制之间的配合水平。系统，并且要求自动控制系统具有简单的结构，经济的，纷歧定是很高的自动化水平，而是要确保真空镀膜设备的宁静性，可靠性，操作便当和易于维护�？刂葡低吃谘≡褡远刂粕璞讣捌洳考妥远潜硎庇侠�。
真空镀膜是高温下薄膜主体的蒸发，使其在工件外貌上结晶。由于空气将对蒸发的薄膜分子爆发阻力，并引起碰撞，使晶体粗糙而昏暗，因此必须在高真空下使晶体细腻明亮。如果真空度不高，晶体将失去光泽，并且粘协力也很是差。中频磁控溅射靶利用磁控靶，在电场的作用下加速膜体蒸发分子对靶质料的轰击，溅射大宗靶原子和中性靶原子（或分子）。 ）沉积在基板上。膜解决了已往自然蒸发无法处理的膜品种问题。中频设备由于其高频和大电流而必须添加冷却水。当电流在导体中流动时，会爆发集肤效应，电荷会积累在导体外貌，从而使导体发热，因此使用中孔管作为导体以添加水进行冷却。
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