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磁控溅射技术不可是科学研究和精密电子制造中常用的薄膜制备技术，并且经过多年的不绝革新和生长，已经成为重要的工业化大面积真空镀膜技术之一，广泛应用于玻璃、汽车、医疗保健、电子工业等行业和民生领域 。例如，磁控溅射技术生产的镀膜玻璃可以由多层金属或金属氧化物组成，允许任意调理能量通过率和反射率，具有良好的美学效果，越来越多地应用于现代建筑领域 。好比磁控溅射技术也可以应用于织物涂层[3]，可以应用于宁静领域，如防电击、电磁屏蔽、机械人防护织物等，也可以用于染料生产 。这种涂层织物在医疗保健、环保、电子工业等领域有着重要的应用 。
磁控溅射技术是一项起源较早，但至今仍能发挥巨着述用的技术 。其优势不但体现在涂料上，还渗透到各个行业 。到目前为止，我国的溅射技术水平与前一个相比有了很大的突破 。随着时代的进步和现代工业生产的需求，社会对磁控溅射技术的要求越来越高，这就要求研究人员对这项技术进行进一步的研究和革新，提高其精度和功效，满足现代工业日益增长的需求，更好地为社会生长和科学进步做出孝敬 。
从最初的单体间歇镀膜设备到全自动连续镀膜生产线，在整个镀膜设备的开发历程中，该行业的工程技术人员对镀膜设备进行了一系列立异性的设计革新，如提高磁控溅射靶材的溅射率、消除靶材末端的沟槽、提高转台的装载能力等 。这些革新有效地提高了生产效率和产品质量，降低了能耗，为集热管的大规模生产涤讪了基础 。同时，这些革新也可以为其他行业涂装设备的生长提供参考 。
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