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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，接纳物理或化学要领，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种新的薄膜制备工艺。简而言之，金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，从而可以沉积在被涂覆的物体(称为基底、衬底或基体)上。
真空镀膜技术是一种质料合成加工技术，广泛应用于半导体电路、LED屏、触摸屏、显示屏行业，如光学薄膜、感光薄膜、� ；つぁ⒐ぞ叱脖∧ぁ⒛擅字柿瞎πП∧さ纳�。然而，全球制造业的快速生长给真空镀膜行业带来了巨大的机缘和挑战。
与古板镀膜工艺相比，真空镀膜有许多优点:在真空电场条件下，等离子体直接沉积在工件外貌形成膜层，制止了电镀液的污染 ；还可以将加工温度控制在500度以内，适用于种种基体质料 ；靶材种类繁多，更适合涂覆种种产品。
蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀是真空镀膜技术的三种形式，基于这三种技术的真空镀膜设备是形成高质量、高性能薄膜的要害。以磁控溅射镀膜设备为例，在真空情况下，充入的氩气通过高压和磁场处于离子状态，撞击靶材，使靶材原子冲向衬底形成薄膜层。
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