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真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它以真空技术为基础，利用物理或化学要领，吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控管等一系列新技术，使薄膜成为一种新的制备工艺。简单地说，它是一种将金属、合金或化合物在真空中蒸发或溅射，使其固化并沉积在被涂基材上的要领，称为真空涂层。真空镀膜是一种需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等。
在真空镀膜历程中，磁控溅射靶在发射历程中会爆发高温，导致靶体变形，因此磁控溅射靶体有水套来冷却靶体。
为了包管水套内的水温不受情况和自然温度的影响，通常需要使用冷水机对真空镀膜机进行冷却。真空镀膜冷水机可将水温稳定在5℃~30℃，进行调理和控制，有效控制真空镀膜机的温度，提高镀膜件的质量。薄膜是在真空中制备的，包括简单或复合薄膜，如结晶金属、半导体和绝缘体。
化学气相沉积虽然也接纳减压、低压或等离子等真空要领，但真空镀膜一般是指沉积薄膜的物理要领。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀膜。真空镀膜的通用性也决定了其广泛的应用规模。总的来说，真空镀膜的主要作用是使镀膜零件外貌具有高度的金属光泽和镜面效果，使镀膜对镀膜质料具有优异的阻隔性能，并具有良好的电磁屏蔽和导电效果。
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