真空镀膜的作用主要是使镀膜外貌具有高的金属光泽和镜面效果,特别是汽车灯罩,具有很是重要的聚光效果;其次,使镀膜外貌具有极好的阻隔性,提供优良的电磁屏蔽和导电效果。凭据气相金属生成方法和沉积方法的差别,真空镀膜分为两种工艺:热蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。而磁控溅射法由于镀层与基体结协力强,镀层致密、均匀,因而更具技术优势。负压电镀技术是指在真空情况中,某些金属或金属化合物以气相的形式沉积到质料外貌(通常是非金属),属于物理气相沉积工艺,由于通常是铝、锡、铟等金属的镀层,所以又称负压金属化。
磁控溅射法是一种物理气相沉积法,用于制备种种质料的薄膜,如金属,半导体,绝缘体等。镀膜历程中,镀速与溅射功率、溅射时间、靶材到基片的距离、事情气压等因素都会影响镀膜质量和厚度。磁控溅射法镀膜时,由于耗靶量增大,耗靶量增大,靶基间距增大,当其他参数相同时,镀膜性能逐渐下降,不切合要求。在均匀的磁场作用下,薄膜的均匀性受到磁场的影响,磁场不均匀会引起薄膜位置的偏移。
磁控溅射是70年代在阴极溅射基础上生长起来的一种新的溅射镀膜要领,因其有效地克服了阴极溅射速率低、电子使衬底温度升高等缺点而获得了迅速生长和广泛应用。
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