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(3)真空镀膜机真空包装
真空泵抽至6.6x10-3pa 。逐渐是粗抽，从空气抽至5pa上下，用食油扩散泵开展细抽 。在粗抽时，可以烤制加温至150℃ 。随着镀膜室溫度的上升，器壁放空气会使真空值减少，随后又回暖，直到溫度上升到6.6x10-3pa时才华开展镀膜事情中 。
(4)负电子清理
①氩直流溅射清理
真空值：通人高纯氩气瓶(99.999%)真空值维持在2～3pa 。负电子事情电压：800～1000v 。负电子時间：10min.
此时在真空泵镀膜房间内爆发电弧放电，充放电造成的氩正离子以较高的力量碰撞产品工件表层，将产品工件表层吸咐的汽体、残渣和产品工件表层分子磁控溅射出来，外露原质料的新鮮表层 。
②钛负电子
真空值：通人高纯氩气瓶使真空值维持在2x10-2pa 。单脉冲偏压：400～500v，pwm占空比20% 。电孤电流量：60～80a，交替点燃电孤挥起源，每一个电孤挥起源点燃1～2min 。
(5)真空镀膜机镀膜
①pvd涂层
真空值：通人高纯氩气瓶，真空值维持在2x10-2pa 。单脉冲偏压：200～300v，pwm占空比50% 。电孤电流量：60～80a，点燃所有弧源，時间2～3min.
②镀ticn
真空值：通人高纯氢气使真空值维持在(3～8)x10-1pa，随后再慢慢加大c2h2汽体，陪同着c2h2汽体量扩大，色泽由金黄色一赤金黄一玫瑰金色一灰玄色转变 。利用n2与c2h2二种混淆气体的百分比可以做到设定的饱和度 。
电孤电流量：50～70a 。单脉冲偏压：100～150v，pwm占空比60%～80% 。聚集溫度：200℃上下 。镀膜時间：10～20min，膜层薄厚0.2～0.5μm 。
(6)制冷
真空镀膜机镀膜工艺流程完毕后，首先关掉电孤开关电源和偏压电源，随后关掉气动阀门、转停架 。产品工件在真空泵镀膜房间内制冷至80～100℃时，向镀膜房间内充空气，取下产品工件 。
以上是多弧正离子真空镀膜机镀膜加工工艺通用性办法，运用普遍，也是最多见的 。
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