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真空镀膜机厂家为你介绍复合离子镀膜机

2021-06-03 10:55:04

为了满足种种多层薄膜和复合膜的要求,多功效复合离子镀膜机已成为目前研究生长的偏向和热点。复合离子镀膜机接纳双目标先进技术,克服了直流溅射固有的目标中毒、起火等不良缺点,可以镀AL2o3、SiO2氧化优质膜,提高镀层抗氧化耐腐化性。

复合离子镀膜机中心装置柱状多弧靶,靶为钛或锆。它不但能坚持多弧技术离化率高、沉积率高的特点,还能有效减少小平面多弧靶沉积历程中不可制止的液滴缺陷,从而制备低孔隙率的金属膜或化合特膜;双胞胎平面磁控靶装置在周围,目标是铝或硅,可以镀Al2O3和SiO2金属陶瓷膜;中外,周围装置多个小平面多弧蒸起源,目标是铬或镍,可以镀多层金属膜和多层复合膜。

复合离子镀膜设备具有多种差别形式的镀膜装置和差别质料的蒸起源和发射靶,既能独立事情,又能同时事情,既能制备纯金属薄膜,又能制备金属化合物薄膜或复合质料薄膜,既能制备单层薄膜,又能制备多层复合薄膜,广泛。


真空镀膜机特点


多弧离子镀技术以其奇特的优势获得了广泛的应用。随着科学技术和生产的生长,它将继续开拓其应用领域。凭据目前的情况,该技术将在以下几个方面生长很大:

1)新型高效可控弧靶,包括新型电源;

2)除DC外的其他偏压电源;

3)结合非平衡磁控溅射技术的新型蒸发器;

4)整体结构形式多样;

5)通过盘算机辅助设计和控制实现技术多样化。


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