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磁控溅射要领是指电子在电场的作用下加速飞入基底，与氩原子碰撞，电离出大宗的氩离子和电子，使电子飞入基底。由于接纳高压电场引发爆发等离子体镀膜质料，险些所有的高熔点金属都能使用，因此相关于真空镀膜法本钱也较高，但与真空镀膜法制造工艺相比，磁控溅射法具有镀膜层与基材层结协力强、镀层致密、均匀等优点。
磁控溅射真空镀膜设备是指在真空条件下，现有产品接纳的多功效镀膜设备，它由多个系统组成，每一个系统可完成差别的功效，从而抵达*的高质量镀膜，其中包括真空腔、机械泵、真空测试系统、油扩散泵、抽真空系统、冷凝泵及成膜控制系统等。
真空镀膜机：镀膜工艺主要有真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法和溶胶-凝胶法等。利用磁控溅射技术可以设计和制作多层复合膜系，可在白色玻璃基底上镀上多种颜色，IPG型钟表镀膜机是一种耐腐化、耐磨、耐腐化性能好的镀膜设备，是目前生产和使用最广泛的产品之一。与磁控溅射法相比，真空蒸镀玻璃的种类和质量都有一定的差别，并逐渐用真空溅射法取代�；喑粱ㄊ侵冈诟》úＡ呱�，反应性气体在烧焦的玻璃外貌上剖析，均匀地沉积形成镀膜玻璃。
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